Më 9 shtator, me orën lokale, CEO i Intel, Kissinger njoftoi se do të investonte 20 miliardë dollarë për të ndërtuar një fabrikë të re në shkallë të gjerë vaferash në Ohio, Shtetet e Bashkuara.Kjo është pjesë e strategjisë së Intel IDM 2.0.I gjithë plani i investimit është deri në 100 miliardë dollarë.Fabrika e re pritet të prodhohet në masë në vitin 2025. Në atë kohë, procesi "1.8 nm" do ta kthejë Intelin në pozicionin udhëheqës të gjysmëpërçuesve.
Që kur u bë CEO i Intel në shkurt të vitit të kaluar, Kissinger ka promovuar fuqishëm ndërtimin e fabrikave në Shtetet e Bashkuara dhe në mbarë botën, nga të cilat të paktën 40 miliardë dollarë janë investuar në Shtetet e Bashkuara.Vitin e kaluar, ai ka investuar 20 miliardë dollarë në Arizona për të ndërtuar një fabrikë vaferash.Këtë herë, ai investoi gjithashtu 20 miliardë dollarë në Ohio dhe gjithashtu ndërtoi një fabrikë të re vulosjeje dhe testimi në New Mexico.
Intel investon 20 miliardë dollarë të tjerë për të ndërtuar dy fabrika të çipave.Mbreti i teknologjisë "1.8 nm" rikthehet
Fabrika e Intel është gjithashtu një fabrikë e madhe e çipave gjysmëpërçues e sapondërtuar në Shtetet e Bashkuara pas kalimit të faturës së subvencionit të çipave prej 52.8 miliardë dollarë amerikanë.Për këtë arsye, në ceremoninë e fillimit mori pjesë edhe presidenti i Shteteve të Bashkuara, guvernatori i Ohajos dhe zyrtarë të tjerë të lartë të departamenteve lokale.
Intel investon 20 miliardë dollarë të tjerë për të ndërtuar dy fabrika të çipave.Mbreti i teknologjisë "1.8 nm" rikthehet
Baza e prodhimit të çipave të Intel do të përbëhet nga dy fabrika vaferash, të cilat mund të strehojnë deri në tetë fabrika dhe sisteme mbështetëse ekologjike.Ajo mbulon një sipërfaqe prej afro 1000 hektarësh, pra 4 kilometra katrorë.Ai do të krijojë 3000 vende pune me pagesë të lartë, 7000 vende pune në ndërtim dhe dhjetëra mijëra vende pune për bashkëpunim në zinxhirin e furnizimit.
Këto dy fabrika të vaferave pritet të prodhojnë në masë në vitin 2025. Intel nuk e përmendi në mënyrë specifike nivelin e procesit të fabrikës, por Intel tha më parë se do të zotëronte procesin e CPU-së me 5 gjenerata brenda 4 viteve dhe do të prodhonte në masë 20a dhe 18a procese dy gjenerimi në vitin 2024. Prandaj, fabrika këtu duhet të prodhojë edhe procesin 18a deri në atë kohë.
20a dhe 18a janë proceset e parë të çipit në botë që arrijnë nivelin EMI, ekuivalent me proceset 2nm dhe 1.8nm të miqve.Ata gjithashtu do të lançojnë dy teknologji të teknologjisë së zezë Intel, ribbon FET dhe powervia.
Sipas Intel, ribbonfet është zbatimi i Intel i portës rreth transistorëve.Do të bëhet arkitektura e parë krejt e re e tranzistorit që kur kompania lançoi për herë të parë FinFET në 2011. Kjo teknologji përshpejton shpejtësinë e ndërrimit të tranzistorit dhe arrin të njëjtën rrymë lëvizëse si struktura me shumë fije, por zë më pak hapësirë.
Powervia është rrjeti unik i Intel-it dhe i pari i industrisë së transmetimit të energjisë, i cili optimizon transmetimin e sinjalit duke eliminuar nevojën për furnizim me energji dhe
Koha e postimit: Shtator-12-2022